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Hard Mask를 이용한 식각 공정
최근 박막의 높이가 높아지고 선폭이 작아짐에 따라
일반적인 식각 기술로는 한계에 다다르면서 Hard Mask 공정을 이용해 식각을 한다.
(Silicon-Oxide, Silicon-Nitride, ACL)
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