Mask 제조 기술

Mask 제작

Mask 제작 순서도 PR 코팅 순서와 유사하다.

Field Polarity

Positive PR을 사용하는 조건에서 필드 다크(Field Dark) 마스크는 패턴을 그린 부분이 크롬이 없어 감광막 공정 시 감광막이 제거되는 지역

필드 클리어(Field Clear) 마스크는 패턴을 그린 부분이 크롬이 있어 감광막 공정 시 감광막이 남아 있게 되는 마스크이다.

 

OPC

포토 공정 중 노광 단계에서 패턴이 새겨진 마스크에 빛이 투과될 때 패턴의 기하학적 모양에 따라 초점의 깊이, 에너지 및 빛의 회절 현상 등에 따라 변수가 발생하게 되는데, 이로 인해 원래의 마스크 패턴과 조금 다르게 패터닝 된다.

이러한 현상을 해결하기 위해 OPC 기법을 통해 원래의 패턴에 가깝게 PR이 형성되도록 마스크 레이아웃을 보정한다.

OPC란 Optical Proximity Correction의 약자로 직역하면 '광학적 근접효과 보정'이다.

빛 에너지가 상대적으로 많이 들어가 라운딩이 되는 모퉁이에는 Serif를 그려주어 패턴을 보강하고, Bar 패턴의 끝부분은 노광이 더 많이 될 수 있으므로 Hammerhead 모양으로 패턴을 달아서 레이아웃한다. 그리고 빛 에너지가 적게 들어가 노광이 비교적 적게 되어질 수 있는 코너 안쪽에는 Mousebit를 그려주어 레이아웃 시 미리 패턴을 깎아내 레이아웃한다.