반응형 oxidation1 Wet Oxidation 결과 및 레시피 강덕민의 Ellipsometer 측정 결과 팀원 1의 측정 결과 팀원 2의 측정 결과 팀원 3의 측정 결과 4000Å(400nm) Recipe를 통해 공정을 진행했지만, 400nm에 조금 못미치는 393.38 ~ 393.99nm가 측정되었다. 같이 공정을 돌렸던 웨이퍼들 중에 Center에 위치한 웨이퍼 인 것 같다. Uniformity는 (Max-Min*100)/2*AVE로 계산하면 된다. 다음 공정은 Sputter를 이용한 Deposition이다. SiO2(395.35nm, 3953.5Å) Si 현재 공정 상황 단면도이다. 2023. 3. 28. 이전 1 다음 반응형
