Al Thin Film DC Sputtering Inspection

Al Depsition
공정 Recipe	Start Pressure	5.00E-6 Torr
	Z-Motion	1.00 mm
	Operating Pressure	5.0 mTorr
	Ar Gas	10 sccm
	DC Power	700.0 W
	Operating Time	180 sec
	Substrate Rotation Control	5.0 rpm
목표 두께	1500Å

 

 

현재의 단면도이다.

 

Al은 Ellipsometer로 측정할 수 없기에 4-Point-Probe를 이용해 표면저항을 측정 후 계산해 박막의 두께를 알 수 있다.

 

표면저항 : 1105352.200 ohm/sq

Al의 비저항 : 2.65

보정계수 : 4.53

 

Thin Film Thickness = 2.65 / 1105352.200 = 2.39743E-06이므로 2397Å이다.

 

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Target 값을 훨씬 오버하는 값이 나왔다 뭐지?